Exzellente Prozesskontrolle für semi-oxidierte Targets

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Unipolar Pulsgeneratoren Anwendungen

Kombinationen DC + Unipolar Pulsgeneratoren _012022 (208.56 KB)

Die unipolaren Pulssyteme von ADL bieten sich beim Sputtern von teiloxidischen Prozessen an.

Entweder teilreaktiv mit metallischen, oder unterstöchiometrisch mit keramischen Targets, tragen die unipolaren Pulse zur Vermeidung der zunehmenden Passivierung der Kammerwand bzw. Anode und der Stabilität des Prozesses durch niedrigste Arc-Energien bei.

Zum Einsatz kommt diese Gerätekombination z.B. bei der OLED-, oder LCD-Fertigung für große, flache Bildschirme oder bei speziellen Deko- und Hartstoff-Schichten.

Highlights
  • Große Bandbreite an Sputteranwendungen mit wenig leitfähigen Targetmaterialien
  • Exzellente Prozesskontrolle für semi-oxidierte Targets, z. B. TiOx, NbOx … 
  • Stabile Prozesse auch bei Arc-kritischen Targets wie AZO
  • Unipolar voll reaktive Beschichtungsprozesse wie SIO2, SI3O4, AI2O3
  • Verbesserung der Schichtmorphologie versus DC
Beispiel für eine Kombination von DC-Stromversorgung und Unipolar Pulsgenerator für das kundenspezifische Sputtern mit einer Unipolar-Kathode
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